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铝蚀刻液STM-AL10用在生产的用途可以调整药液温度来调整蚀刻速率，所以本化学品对于初次使用者来说，是简单容易上手，太仓有机去膜液。特点：单剂型产品，打开即可使用，拥有稳定的蚀刻速率表现，太仓有机去膜液。任何方式皆可使用，浸润，喷洒，旋转喷淋。拥有优良的铝饱和溶解度。低更槽频率设计。对环境冲击小。使用建议：槽液式：将待蚀刻物品面朝上于载具上，缓慢的沉入药液里面，若有循环功能的话，建议开启。喷洒式：先行调整转轮转速测试待蚀刻物走完全程时间和蚀刻所需时间一致，太仓有机去膜液，喷洒头压力建议可以设为 0.5 psi~1.5 psi，喷洒头摆动频率和图案密度相关，建议开始药液循环功能以节省成本。蚀刻液原料：草酸：在蚀刻液中作还原剂使用，一般选用工业产品。太仓有机去膜液
铜面键结剂STM-228槽液寿命：根据槽体2~4周更换槽液一次；消耗量： 800~1000SQ.FT/公升；依分析浓度补充铜面键结剂。中粗化微蚀液PME-8006系列，分为粗化微蚀液PME-8006，以及粗化后浸液PME-8006P。粗化工艺是用于改善印刷线路板制程中铜面和抗蚀剂间结合力的。随着线路板复杂性的增加，包括超细线路和微孔技术，对抗蚀剂结合力的要求也越来越高。PME-8006是一个简单的结合力强化工艺，它可以在铜上形成均匀的粗化表面，为抗蚀剂键合力的增强提供理想的微观结构。特点：改善抗蚀剂结合力；流程简单，低温操作。太仓清槽剂剥膜过程铜面不易氧化，对于外层板剥膜可减少铜面氧化造成蚀铜不净。
电子氟化液体是一种无色、透明、低粘度、不可燃、高安全的液体，主要用作清洗剂、干燥剂和溶剂。清洗剂可以去除塑料金属中的灰尘和油脂。挥发速度极快，可用作干燥剂，可将酒精浸泡后的物质烘干，也可将水基清洗剂和半水基清洗剂清洗后的物质烘干。适用范围：电子元件(集成电路、LSI元件或电子器件气密性试验；带电清洗设备、绝缘液；电子精密清洗、光学清洗、脱水清洗；热冲击(冷热冲击试验液)、适用于低温罐应用。热传导液、冷却介质；干性脱水剂；溶剂、喷箱推进剂；溶剂稀释剂、润滑剂稀释剂、专属溶剂等。
超粗化微蚀液PME-6008优点：处理过的铜面微观粗糙而均匀，能提高铜面与干、湿、光感胶膜，阻焊剂，或环氧树脂的结合力 ；控制容易，一般来说只需分析铜离子浓度 ；微蚀速度稳定；对水质（特别是氯离子）不敏感 ；安全事项：操作人员在作业过程中须穿戴防护服、防护手套、口罩、防护眼镜。作业场所应加强通风，保持空气充分流通，有必要安装排风扇；避免直接接触，勿吸入霾雾，不重复使用已污染的衣物。在使用或接触此药水前请先仔细阅读提供的相关 MSDS文件。闪蚀STM-210药液，利用电解铜基材的半加成法，对基底铜进行优先蚀刻，从而抑制了线幅的缩小。
微蚀稳定剂ME-3001适用于内外层前处理、PTH、电镀、防焊等制程。溶液维护：药液的实际损耗与设备结构关系非常密切；ME-3001药⽔可通过24小时内分析⼀⾄两次，来实现浓度控制，分析硫酸，双氧⽔或铜离⼦浓度是为了控制反应过程，当铜的浓度达到35-45g/l时，需换槽3/4，再补加所需量；每⽣产 1000SF2板添加98%H2SO42.5-5.5L，35%H2O23-4.5L，安定剂HT3031.5-3L；在正常操作条件下，微蚀速率为 30±15ц″/min。根据需要微蚀速率也可通过调整H2O2、H2SO4浓度来完成；建议微蚀槽前段尽量使用纯⽔洗，避免 CL-过多污染槽液，影响微蚀速率，同时不能接触无机酸性或还原试剂。化银STM-AG70：化银是一个非常简单的制程，成本较低，易于维护。上海FPC填孔药水
剥镍钝化剂BN-8009有效的降低生产，提高经济效率。太仓有机去膜液
为了减少侧蚀，一般PH值应控制在8.5以下，蚀刻液的密度：碱性蚀刻液的密度太低会加重侧蚀，选用高铜浓度的蚀刻液对减少侧蚀是有利的。铜箔厚度：要达到较小侧蚀的细导线的蚀刻，尽量采用（超）薄铜箔。而且线宽越细，铜箔厚度应越薄。因为，铜箔越薄在蚀刻液中的时间越短，侧蚀量就越小。PCB清洗药剂清洗效果好，不含卤素、低气味。对工件表面无腐蚀，不变色；水基，无闪点；无残留，易漂洗；不腐蚀，无毒，无污染；符合欧盟RoHS认证要求。太仓有机去膜液
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