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化学镀镍的工业应用及工艺设计具有多样性和**性的特点。传统上，化学镀作为一种表面处理方法应归属于电镀，是电镀的一个镀种。但化学镀不同于电镀，主要是因为化学镀不需要外加电源，而且操作方法与不同于电镀，其特点如下：镀层厚度均匀，常熟铜化学镀镍前处理，化学镀液的分散程度很高。化学镀本身是一个自催化的氧化还原过程，只要催化基体与溶液接触到就可以施镀，几乎是基体形状的一个复制，常熟铜化学镀镍前处理，常熟铜化学镀镍前处理，达到仿形的程度，不会像电镀一样，出现由于电力线分布不均匀而引起的镀层厚度不均的现象。真正的化学镀镍：从含有还原剂的溶液中沉积金属。常熟铜化学镀镍前处理
用次磷酸盐作还原剂的化学镀镍溶液中镀得的镀层含有4%～15%的磷，是一种镍磷合金。以硼氢化物或胺基硼烷作还原剂得到的镀层才是纯镍层，含镍量可达99.5%以上。刚沉积出来的化学镀镍层是无定型的，呈非晶型薄片状结构。镀层中磷含量主要决定于溶液的pH值，随着pH值降低，磷含量增大。常规的酸性化学镀镍溶液中沉积出的镀层含磷量为7%～12%，而碱性溶液中沉积的镍层含磷量为4%～7%。此外，溶液的组成及各组分的含量和它们的相对比率，以及溶液的工作温度等都对含磷量有一定的影响。丽水化学镀镍光亮化学镀镍具体过程是指：在一定条件下，水溶液中的金属离子被还原剂还原，并且沉淀到固态基体表面上的过程。
化学镀镍与电镀比较，具有如下优点：不需要外加直流电源设备。镀层致密，孔隙少。不存在电力线分布不均匀的影响，对几何形状复杂的镀件，也能获得厚度均匀的镀层;可在金属、非金属、半导体等各种不同基材上镀覆。化学镀镍工艺在电子工业中有重要的地位。由于采用的还原剂种类不同，使化学镀所得的镀层性能有明显的差异，因此，在选定镀液配方时，要慎重考虑镀液的经济性及所得镀层的特性。目前，化学镀镍、铜、银、金、钴、钯、铂、锡以及化学镀合金和化学复合镀层，在工业生产中已被采用。
若化学镀镍废液中的镍及大部分有机酸被沉淀除去后，废液中的COD达不到排放标准时，废液还需要进行深度处理，在pH值大于9的条件下，通入氯气，此时Cl2主要以CLO-的形式存在，具有较强的氧化能力，若在废液中加入少量的铜离子作为催化剂时，废液可以得到深度处理，COD很容易降低到（100mg/L)直接排放的标准。同时有机酸可以氧化为CO2和水，次磷酸盐和亚磷酸盐也容易氧化为磷酸盐，磷酸盐容易发生沉淀反应而除去。原子氢理论认为，溶液中的Ni2+靠还原剂次磷酸钠（NaH2P02）放出的原子态活性氢还原为金属镍，而不是H2PO2-与Ni2+直接作用。化学镀镍的镀层在均匀性、耐蚀性、硬度、可焊性、磁性、装饰性上都显示出优越性。
化学镀镍层比电镀镍层的硬度高得多，而且更耐磨。电镀镍层的硬度*为HV160～180，而化学镀镍层的硬度一般为HV300～500。用热处理方法可极大提高化学镀镍层的硬度，在400℃加热1小时后，硬度的较高值约可达HV1000。若继续提高热处理温度，如提高到600℃时，则硬度反而降低为HV700。热处理前的化学镀镍层是非晶型的无定型结构，热处理后则转变成晶型组织，镀层中有Ni3P相形成。Ni3P相的析出量随着热处理温度的升高而增加，其较大的析出量则决定于镀层的含磷量。锡、铜和铜合金制件要先用铝片接触于其表面上1-3分钟，以加速化学镀镍。丽水化学镀镍光亮
化学镀镍只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层，含镍量可达到99．5%以上。常熟铜化学镀镍前处理
化学镀镍耐磨性好：由于催化处理后的表面为非晶态，即处于基本平面状态，有自润滑性。因此，摩擦系数小，非粘着性好，耐磨性能高，在润滑情况下，可替代硬铬使用。化学镀镍耐光泽度高：催化后的镀件表面光泽度为LZ或▽8-10可与不锈钢制品媲美，呈白亮不锈钢颜色。工件镀膜后，表面光洁度不受影响，无需再加工和抛光。化学镀镍表面硬度高：经本技术处理后，金属表面硬度可提高一倍以上，在钢铁及铜表面可达Hv570。镀层经热处理后硬度达Hv1000，工模具镀膜后一般寿命提高3倍以上。常熟铜化学镀镍前处理
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