中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价 江苏迪纳科精细材料股份供应

靶材绑定背板流程：一、什么是绑定绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要有三种的方式：压接、钎焊和导电胶。靶材绑定常用钎焊，钎料常用In、Sn、In–Sn，一般使用软钎料的情况下，要求溅射功率小于20W/㎝2。二、为什么要绑定 1、防止靶材受热不匀碎裂，例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及烧结靶材；2、节省成本，防止变形，如靶材太贵，可将靶材做薄些，绑定背靶以防止变形。三、背靶的选择 1、常用无氧铜，导电性好，无氧铜的导热性比紫铜好；2、厚度适中，一般建议背靶厚度3mm左右。太厚，中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价，消耗部分磁强；太薄，容易变形。四、绑定过程 1、绑定前将靶材和背靶表面预处理2、将靶材和背靶放置在钎焊台上，升温到绑定温度3、将靶材和背靶金属化4、粘接靶材和背靶5、降温和后处理五，中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价、绑定靶材使用的注意事项1，中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价、溅射温度不宜太高2、电流要缓慢加大3、循环冷却水应低于35摄氏度4、适宜的靶材致密度。 如何制成良好的陶瓷靶材也是需要注意的地方。中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价

背板材料：无氧铜(OFC)–目前经常使用的作背板的材料。因为无氧铜具有良好的导电性和导热性，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背板可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下，如需要进行高温贴合的条件下，无氧铜容易被氧化和发生翘曲，所以会使用金属钼为背板材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配，同样也需要使用金属钼作为背板材料。不锈钢管(SST)–目前**常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管，因为不锈钢管具有良好的强度和导热性而且非常经济。

背板重复使用大部分背板可以重复使用，尤其是采用金属铟进行贴合的比较容易进行清洁和重新使用。如果是采用其他贴合剂（包括环氧树脂）则可能需要采用机械处理的方式对背板表面处理后才能重复使用。当我们收到用户提供的已使用过的背板后，我们会首先进行卸靶处理（如适用）并且对背板进行完全检查，检查的重点包括背板的平整度，完整性及密封性等。我们会通知用户对背板的检查结果，如我们发现有需要维修的地方会书面通知客户并提供维修报价。 山东显示行业陶瓷靶材价钱ITO靶材是当前太阳能电池主要的溅射靶材。

光伏领域对靶材的使用主要是薄膜电池和HJT光伏电池。以HJT电池片为例，在HJT电池片结构中具有TCO薄膜层，该薄膜承担着透光以及导电的重要作用。应用PVD技术，使离子和靶材表面的原子离开靶材，在基底上形成透明导电薄膜。以钙钛矿电池结构为例，钙钛矿电池是由多层薄膜以及玻璃等构成。例如ITO薄膜就需要光伏靶材进行制备。薄膜较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶（氧化铝锌）等，ITO靶材是当前太阳能电池主要的溅射靶材。薄膜电池中透明导电膜至关重要，承担着透光和导电的双重作用。从ITO靶材的优势来看，氧化铟锡（ITO）是N型半导体材料，具有高导电率、高可见光透过率、较强的机械硬度和良好的化学稳定性等优点。因此，在光伏领域中，ITO靶材为原材料所制成的ITO薄膜具有较好的光学特性和电学特性。

从ITO靶材的发展趋势来看：1）大尺寸化，在需要大面积镀膜时，通常将小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材，由于具有焊缝，靶材镀膜质量将降低；2）高密度化，在溅射过程中ITO靶材表面会出现结瘤现象，如果继续溅射，所制备的薄膜光学性能以及电学性能将降低。高密度的靶材具有较好的热传导性以及较小的界面电阻，因此结瘤现象出现的概率较小，所制备的ITO薄膜的质量较高，且生产效率、成本较低；3）提高靶材利用率，由于平面靶材在溅射过程中，中间部分难以被侵蚀，因此靶材利用效率相对较低。通过改变靶材形状，可以提高靶材的利用效率，从而降低备ITO薄膜的成本。从整体上看，ITO在光电综合性能上高于AZO靶材，但AZO靶材的优势或将为靶材带来降本空间。

靶材预溅射建议采用纯氩气进行溅射，可以起到清洁靶材表面的作用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W小时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材快，一个合理的功率加大速率为1.5W小时/平方厘米。在进行预溅射的同时需要检查靶材起弧状况，预溅射时间一般为10分钟左右。如没有起弧现象，继续提升溅射功率到设定功率。根据经验，一般应确保冷却水出水口的水温应低于35摄氏度，但非常重要的是确保冷却水的循环系统能有效工作，通过冷却水的快速循环带走热量，是确保能以较高功率连续溅射的一项重要保障。陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点。江苏AZO陶瓷靶材生产企业

靶材主要由靶坯、背板等部分组成。中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。中国台湾镀膜陶瓷靶材市场价

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