氧化铌靶材根据其镀膜工艺的不同分为平面靶材和旋转靶材两种,所需的氧化铌纯度均要求达到99.95%,但对氧化铌的物理性能指标要求不同。平面靶材的生产使用热压法,要求氧化铌粉末粒度细且均匀,成形性能好;旋转靶材采用热喷涂法生产,要求氧化铌具有良好的流动性及严格的粒度范围。旋转靶材是近些年新发展的一种靶材,与传统的平面靶材相比,旋转靶材相对于平面靶材具有很多的优点: 1、利用率高(70%以上),甚至可以达到90%; 2、溅射速度快,为平面靶的2-3倍; 3、有效地减少打弧和表面掉渣,工艺稳定性好等优点,因此近年来逐步替代了平面靶材。 针对国内尚未能生产靶材级高纯氧化铌的现状,在现有氧化铌湿法冶金生产工艺的基础上,以高纯铌液为原料,通过喷雾干燥造粒的方法实现对氧化铌产品粒度和粒形的控制,制取满足氧化铌靶材尤其是氧化铌旋转靶材生产要求的球形高纯氧化铌产品。产品纯度为99.95%、粒形为球形、粒度大小范围为50-150μm的高纯氧化铌产品。与国外同行生产厂家以高纯氧化铌产品为原料,四川光伏行业陶瓷靶材一般多少钱,四川光伏行业陶瓷靶材一般多少钱,需经过球磨、制浆、造粒、焙烧的工艺流程相比,具有工艺流程简单,生产成本低,粒度可控,产品成品率高的特点。产品完全能够满足生产氧化铌旋转靶材的要求。从整体上看,四川光伏行业陶瓷靶材一般多少钱,ITO在光电综合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的优势或将为靶材带来降本空间。四川光伏行业陶瓷靶材一般多少钱
磁控溅射的工作原理简单说就是利用磁场与电场交互作用,氩离子轰击靶材表面,同时也把动能传导进去,随后靶材表面的原子就被轰击出来,从不同角度飞向基片,在其表面凝集沉积形成一层薄膜。“这层薄膜非常薄,往往都在纳米量级,是人类肉眼看不见的,而一支10毫米厚的靶材所镀的薄膜面积可达几万甚至十几万平方米,镀膜后产生的价值远超过靶材本身的价值,靶材起的作用非常关键,所以我常将靶材称为小而美、小而精的材料。”“别小看这些薄膜材料,它们是很多功能器件得以大显神威的主要材料。”河南ITO陶瓷靶材生产企业陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点。
背板材料:无氧铜(OFC)–目前经常使用的作背板的材料。因为无氧铜具有良好的导电性和导热性,而且比较容易机械加工。如果保养适当,无氧铜背板可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下,如需要进行高温贴合的条件下,无氧铜容易被氧化和发生翘曲,所以会使用金属钼为背板材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配,同样也需要使用金属钼作为背板材料。不锈钢管(SST)–目前**常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管,因为不锈钢管具有良好的强度和导热性而且非常经济。
背板重复使用大部分背板可以重复使用,尤其是采用金属铟进行贴合的比较容易进行清洁和重新使用。如果是采用其他贴合剂(包括环氧树脂)则可能需要采用机械处理的方式对背板表面处理后才能重复使用。当我们收到用户提供的已使用过的背板后,我们会首先进行卸靶处理(如适用)并且对背板进行完全检查,检查的重点包括背板的平整度,完整性及密封性等。我们会通知用户对背板的检查结果,如我们发现有需要维修的地方会书面通知客户并提供维修报价。
江苏迪纳科精细材料股份有限公司是一家主要生产和销售陶瓷,金属,合金等各类型靶材。陶瓷靶材以氧化铟基和氧化锌基为主,金属和合金靶材以各种熔炼工艺和挤压锻造工艺为主。
ITO靶材应用领域
1、平板显示器(纯度4N)在平板显示领域,ITO靶材主要用于制作ITO导电玻璃及触控屏电极平板,是LCD、PDP、OLED、触摸屏等各类平板显示器件制备的主要材料。显示面板一般涉及上下两层ITO导电膜,用量较大,ITO靶材是平板显示领域用量比较大的靶材之一。
2、薄膜太阳能电池(纯度4N)ITO是一种透明导电层,在太阳能电池中作为透光层,同时作为电极,一般为正极,另一个电极一般以金属银或铝作为背电极使用。ITO靶材主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极。
3、保温透光领域ITO透明导电膜玻璃作为发热体,通电后可以除冰霜,用于飞机挡风玻璃、飞机防眩窗、激光测距仪、潜望镜观察窗等多年来已得到了大规模的应用。ITO透明导电膜玻璃正反面具有相反的红外线通过及反射性能,玻璃正面具有优良的红外线通性,衰减量极小,而反面又具有红外线阻挡反射作用,因而该种玻璃具有优良的保温透光性能,已大量用于制造冷藏柜,随着成本的降低将有望用于房屋节能。
陶瓷靶材的制备工艺;
钙钛矿太阳电池在短短数十年间不断刷新转换效率。基于正置的钙钛矿太阳电池面临着众多问题,如迟滞较大,光热稳定性差等,相较之下倒置结构可以较好的解决上述问题。倒置结构中空穴传输层主要有氧化镍(NiOx)、聚(3,4-乙烯二氧噻吩):聚(苯乙烯磺酸)(PEDOT:PSS)、聚[双(4-苯基)(2,4,6-三甲基苯基)胺](PTAA)等几种,但是PEDOT:PSS,PTAA等空穴传输层并不稳定且成本较高,考虑到未来大面积生产所需,目前只有NiOx较为适合。现有的NiOx制备工艺以纳米晶溶液旋涂、化学浴沉积、原子层沉积、化学气相沉积等为主。目前合适的大面积制备技术以化学气相沉积为主,其中磁控溅射制备可重复性高且较为均匀。现有的技术手段中,常在氧化镍基板中添加单独的碱金属元素或者过渡金属,用以提升氧化镍空穴传输层的空穴传输能力。通常靶材变黑引起中毒的因素靶材中毒主要受反应气体和溅射气体比例的影响。内蒙古智能玻璃陶瓷靶材价钱
超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射工艺属于PVD技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一。四川光伏行业陶瓷靶材一般多少钱
靶材相对密度对大面积镀膜的影响靶材的相对密度是靶材的实际密度与理论密度之比。单组分靶的理论密度为晶体密度。合金或混合物靶材的理论密度由各组分的理论密度及其在合金或混合物中的比例计算得出。热喷涂的靶材结构疏松多孔,含氧量高(即使在真空喷涂中,也很难避免合金靶材中氧化物和氮化物的产生)。表面呈灰色,缺乏金属光泽。吸附的杂质和水分是主要污染源,阻碍了高真空的快速获得,在溅射过程中迅速导致放电,甚至烧毁靶材。同时,靶材溅射表面的高温会迅速导致松散颗粒落下,污染玻璃表面,影响镀膜质量。相对密度越高,成膜速度越快,溅射工艺越稳定。根据靶材制备工艺的不同,铸造靶材的相对密度应在98%以上,粉末冶金靶材应在97%以上才能满足生产使用。因此,应严格控制目标密度,以减少落渣的发生。喷涂靶材的密度低,并且制备成本也低。当相对密度能保证90%以上时,一般不影响使用。四川光伏行业陶瓷靶材一般多少钱
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