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云南显示行业陶瓷靶材 江苏迪纳科精细材料股份供应

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所在地: 江苏省
***更新: 2024-04-16 13:04:22
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磁控溅射镀膜是一种新型的气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广的应用。制程反应室内部的高温与高真空环境,可使这些金属原子结成晶粒,再透过微影图案化与蚀刻,终一层层金属导线,而芯片的数据传输全靠这些金属导线。溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。靶材开裂影响因素裂纹形成通常发生在陶瓷溅射靶材和脆性材料溅射靶材(如铬、锑、铋等)中。云南显示行业陶瓷靶材

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陶瓷靶材通常都会绑定背板一起使用。背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用。陶瓷靶材的种类很多,应用范围,主要用于微电子领域,显示器用,存储等领域。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展。按化学组成,可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已生产应用。ITO(氧化铟锡)靶材是溅射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一种,在显示靶材中占比将近50%。ITO靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型,再高温气氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。重庆溅射陶瓷靶材售价铝靶、铜靶用于导电层薄膜,钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。

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制备一种同质双层氧化铪减反膜,属于光学薄膜技术领域。本发明在透明或半透明基底上依次沉积高折射率的致密氧化铪层和低折射率的多孔氧化铪层。两层氧化铪的折射率由电子束蒸镀的入射角度控制,厚度根据基底不同而调节。本发明采用电子束蒸镀方法,并且双层减反膜由同种材料制成,制备成本低、效率高。该双层氧化铪减反膜对于可见光范围内的多角度入射光均具有很好的减反增透能力,可用于降低窗板、触屏电极或液晶显示屏等表面的反射,具有广的应用前景。

磁控溅射的工作原理简单说就是利用磁场与电场交互作用,氩离子轰击靶材表面,同时也把动能传导进去,随后靶材表面的原子就被轰击出来,从不同角度飞向基片,在其表面凝集沉积形成一层薄膜。“这层薄膜非常薄,往往都在纳米量级,是人类肉眼看不见的,而一支10毫米厚的靶材所镀的薄膜面积可达几万甚至十几万平方米,镀膜后产生的价值远超过靶材本身的价值,靶材起的作用非常关键,所以我常将靶材称为小而美、小而精的材料。”“别小看这些薄膜材料,它们是很多功能器件得以大显神威的主要材料。”AZO薄膜是一种透明导电膜,与ITO薄膜相似的光学和电学特性,制备工艺简单、价格低、无毒和稳定性好等特点。

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ITO靶材生产过程包括金属提纯和靶材制造两个主要环节。因高纯金属原料的品质影响靶材的导电性能等性状,对成膜的质量有较大影响,且靶材种类繁多,客户需求非标,定制属性明显。故而金属提纯环节技术壁垒及附加值均较高。其中铟属于稀散金属,因其具有可塑性、延展性、光渗透性和导电性等特点,而以化合物、合金的形式被广泛应用。目前,铟的主要应用领域是平板显示领域,包括ITO靶材及新兴的铟镓锌氧化物(IGZO)靶材,占全球铟消费量的80%;其次是半导体领域、焊料和合金领域、太阳能发电领域等。生产ITO靶材对于铟的纯度要求一般在4N5及以上,生产化合物半导体材料对于铟的纯度要求则更高,一般在6N及以上。陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点。云南陶瓷靶材生产企业

陶瓷靶材的制备工艺难点;云南显示行业陶瓷靶材

从ITO靶材制备方法来看,制备方法多样,冷等静压优势突出。ITO靶材的制备方法主要有4种,分别为热压法、热等静压法、常温烧结法、冷等静压法。冷等静压法制备ITO靶材优点:1)冷等静压法压力较大,工件受力相对更加均匀,尤其适用于压制大尺寸粉末制品,符合ITO靶材大尺寸的发展趋势;2)产品的密度相对更高,更加地均匀;3)压粉不需要添加任何润滑剂;4)生产成本低,适合大规模生产。从冷等静压法主要制备流程看:1)制备粉末,选取氧化铟与二氧化锡(纯度99.99%)进行乳化砂磨。其中加入2%—4%的聚乙烯醇(PVA)和30%的纯水进行砂磨。然后进行喷雾干燥,调节喷雾干燥塔参数,喷雾制备不同松装密度的ITO粉末。再将ITO粉末进行筛网筛分,获得合格的ITO粉末;2)制备素胚,将ITO粉末装入橡胶模具中振实,密封投料口,进行冷等静压,得到靶材素坯;3)结烧,将素坯放置于常压烧结炉中,保温温度为1450—1600℃,采用多个阶段保温烧结,烧结过程中通入氧气。云南显示行业陶瓷靶材

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