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靶材清洁的目的及方法：靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。金属靶材可以通过四步清洁：第一步用浸泡过的无绒软布清洁；第二步与第一步类似用酒精清洁；第三步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。氧化物及陶瓷靶材的清洗建议用“无绒布”进行清洁。第四步用高压低水气的氩气冲洗靶材，以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒。我们建议用户将靶材无论是金属或陶瓷类保存在真空包装中，尤其是贴合靶材更需要保存在真空条件下，以避免贴合层氧化影响贴合质量。在反应溅射过程中，靶材表面的溅射通道区域被反应产物覆盖或反应产物被剥离，金属表面重新暴露。陕西陶瓷靶材推荐厂家
靶材相对密度对大面积镀膜的影响靶材的相对密度是靶材的实际密度与理论密度之比。单组分靶的理论密度为晶体密度。合金或混合物靶材的理论密度由各组分的理论密度及其在合金或混合物中的比例计算得出。热喷涂的靶材结构疏松多孔，含氧量高（即使在真空喷涂中，也很难避免合金靶材中氧化物和氮化物的产生）。表面呈灰色，缺乏金属光泽。吸附的杂质和水分是主要污染源，阻碍了高真空的快速获得，在溅射过程中迅速导致放电，甚至烧毁靶材。同时，靶材溅射表面的高温会迅速导致松散颗粒落下，污染玻璃表面，影响镀膜质量。相对密度越高，成膜速度越快，溅射工艺越稳定。根据靶材制备工艺的不同，铸造靶材的相对密度应在98%以上，粉末冶金靶材应在97%以上才能满足生产使用。因此，应严格控制目标密度，以减少落渣的发生。喷涂靶材的密度低，并且制备成本也低。当相对密度能保证90%以上时，一般不影响使用。湖北氧化锌陶瓷靶材价钱钙钛矿太阳电池在短短数十年间不断刷新转换效率。
研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.ITO薄膜作为一种重要的透明导电氧化物半导体材料，因具有良好的导电性能及光透射率广泛应用于液晶显示、太阳能电池、静电屏蔽、电致发光等技术中，用氧化铟+氧化锡烧结体作为靶材，直流磁控反应溅射法制备ITO薄膜与用铟锡合金靶相比，具有沉积速度快，膜质优良，工艺易控等优点成为目前的主流?但是，此法成膜过程中会经常发生ITO靶材表面黑色化，生成黑色不规则球状节瘤，本文称此现象为靶材毒化，毒化使溅射速率下降，膜质劣化，迫使停机清理靶材表面后才能继续正常溅射，严重影响了镀膜效率。
制备一种同质双层氧化铪减反膜，属于光学薄膜技术领域。本发明在透明或半透明基底上依次沉积高折射率的致密氧化铪层和低折射率的多孔氧化铪层。两层氧化铪的折射率由电子束蒸镀的入射角度控制，厚度根据基底不同而调节。本发明采用电子束蒸镀方法，并且双层减反膜由同种材料制成，制备成本低、效率高。该双层氧化铪减反膜对于可见光范围内的多角度入射光均具有很好的减反增透能力，可用于降低窗板、触屏电极或液晶显示屏等表面的反射，具有广的应用前景。通常靶材变黑引起中毒的因素靶材中毒主要受反应气体和溅射气体比例的影响。
ITO陶瓷靶材在磁控溅射过程中，靶材表面受到Ar轰击和被溅射原子再沉积的多重作用而发生复杂的物理化学变化,ITO靶材表面会产生许多小的结瘤,这个现象被称为ITO靶材的毒化现象。靶材结瘤毒化后.靶材的溅射速率降低，孤光放电频率增加，所制备的薄膜电阻增加,透光率降低且均一性变差，此时必须停止溅射,清理靶材表面或更换靶材,这严重降低溅射镀膜效率。目前对于结瘤形成机理尚未有统一定论，如孔伟华研究了不同密度ITO陶瓷材磁控射后的表面形貌,认为结瘤是In2O3、分解所致,导电导热性能不好的In2O3又成为热量聚集的中心，使结瘤进一步发展;姚吉升等研究了结瘤物相组成及化学组分,认为结瘤是偏离了化学计量的ITO材料在靶材表面再沉积的结果;Nakashima等采用In2O3和SnO2,的混合粉末制备ITO靶材,研究了SnO2,分布状态对靶材表面结瘤形成速率的影响,认为低溅射速率的SnO2,在ITO靶材中的不均匀分布是结瘤的主要原因。尽管结瘤机理尚不明确,但毋庸置疑的是,结瘤的产生严重影响ITO陶瓷靶材的溅射性能，因此,对结瘤的形成机理进行深入研究具有重要意义。如果化合物的形成速率大于化合物被剥离的速率，则化合物覆盖面积增加。四川氧化锌陶瓷靶材价格咨询
铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。陕西陶瓷靶材推荐厂家
溅射靶材开裂原因生产中使用的冷却水温度与镀膜线实际水温存在差异，导致使用过程中靶材开裂。一般来说，轻微的裂纹不会对镀膜生产产生很大的影响。但当靶材有明显裂纹时，电荷很容易集中在裂纹边缘，导致靶材表面异常放电。放电会导致落渣、成膜异常、产品报废增加。陶瓷或脆性材料靶材始终含有固有应力。这些内应力是在靶材制造发展过程中可以产生的。此外，这些应力不会被退火过程完全消除，因为这是这些材料的固有特性。在溅射过程中，气体离子被轰击以将它们的动量传递给目标原子，提供足够的能量使其从晶格中逃逸。这种放热动量转移使靶材温度升高，在原子水平上可能达到极高的温度。这些热冲击将靶材中已经发展存在的内应力将会增加到许多倍。在这种情况下，如果不适当散热，靶材就可能会断裂。二、溅射靶材开裂应对事项为了防止靶材开裂，需要着重考虑的是散热。需要水冷却机构以从靶去除不需要的热能。另一个需要考虑的问题是功率的增加。短时间内施加过大的功率也会对目标造成热冲击。此外，我们建议将靶材粘合到背板上，这不仅为靶材提供了支撑，而且促进了靶材与水之间更好的热交换。如果目标有一个裂纹，但它是粘接到背板上，仍可以正常使用。陕西陶瓷靶材推荐厂家
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