靶材绑定背板流程:一、什么是绑定绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要有三种的方式:压接、钎焊和导电胶。靶材绑定常用钎焊,钎料常用In、Sn、In–Sn,一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/㎝2。二、为什么要绑定 1、防止靶材受热不匀碎裂,例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及烧结靶材;2、节省成本,防止变形,如靶材太贵,可将靶材做薄些,绑定背靶以防止变形。三、背靶的选择 1、常用无氧铜,导电性好,无氧铜的导热性比紫铜好;2、厚度适中,一般建议背靶厚度3mm左右。太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形。四、绑定过程 1、绑定前将靶材和背靶表面预处理2、将靶材和背靶放置在钎焊台上,升温到绑定温度3、将靶材和背靶金属化4、粘接靶材和背靶5、降温和后处理五、绑定靶材使用的注意事项1、溅射温度不宜太高2、电流要缓慢加大3、循环冷却水应低于35摄氏度4、适宜的靶材致密度。 IGZO由In2O3、Ga2O3和ZnO相互掺杂得到,是一种透明金属氧化物半导体材料。中国澳门ITO陶瓷靶材售价
AZO透明导电薄膜具有高可见光透过率和低电阻率的特点,因此可以作为平面显示器和太阳能平面电极材料,也可用在节能方面,如建筑玻璃表面和汽车玻璃表面近年来,随着液晶显示、触控面板、有机发光显示、太阳能电池等的发展,使得透明导电薄膜成为关键性材料之一。目前,常用的锡掺杂氧化钢(ITO)透明导电薄膜材料中的金属铟属于稀缺资源,开发具有透光、导电特性的“非铟”材料已成为研究的热点之一。由于氧化锌基(ZnO)透明导电薄膜价格较为低廉,且不具毒性,在发展上具有相当的优异性。因此,对于氧化锌薄膜材料及其制备技术的研发,引起了大家的重视。AZO薄膜是一种透明导电膜,具有与ITO薄膜相比拟的光学和电学特性,并具有制备工艺简单、价格低、无毒和稳定性好等特点,被认为是ITO薄膜的比较好替代材料。中国澳门ITO陶瓷靶材售价靶材主要由靶坯、背板等部分组成。
氧化锌(ZnO)属于第三代半导体材料,室温下禁带宽度约为3.37eV,其激子束缚能高达60mev,比室温热离化能(26mev)大得多。第三代半导体材料是指宽禁带半导体材料,它们的发光波长短(近紫外),具有耐高温、抗辐照、制备方法多、毒性小等特点。自1997 年发现ZnO薄膜的室温紫外光发射以来,ZnO薄膜的制备技术及其光电特性成为人们研究的热点。ZnO薄膜可以在低于500C的温度下生长,比ZnSe和GaN的生长温度低得多。ZnO作为一种新型的光电材料在光波导、半导体紫外激光器、发光器件,透明电极等方面应用大面积。Zno 也是一种十分有用的压电薄膜材料,高质量的单晶或c轴择优取向的多晶ZnO薄膜具有良好的压电性质,能够用来制备高频纤维声光器件及声光调制器等压电转换器,在光电通信领域得到大面积的应用。
从ITO靶材的发展趋势来看:1)大尺寸化,在需要大面积镀膜时,通常将小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材,由于具有焊缝,靶材镀膜质量将降低;2)高密度化,在溅射过程中ITO靶材表面会出现结瘤现象,如果继续溅射,所制备的薄膜光学性能以及电学性能将降低。高密度的靶材具有较好的热传导性以及较小的界面电阻,因此结瘤现象出现的概率较小,所制备的ITO薄膜的质量较高,且生产效率、成本较低;3)提高靶材利用率,由于平面靶材在溅射过程中,中间部分难以被侵蚀,因此靶材利用效率相对较低。通过改变靶材形状,可以提高靶材的利用效率,从而降低备ITO薄膜的成本。陶瓷靶材按化学组成,分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物靶材和硫化物靶材等。
主要PVD方法的特点:(3)溅射镀膜:在溅射镀膜过程中,溅射靶材需要安装在机台中完成溅射反应,溅射机台专业性强、精密度高,市场长期被美国、日本跨国集团垄断。(4)终端应用:1)半导体芯片:单元器件中的介质层、导体层与保护层需要钽、钨、铜、铝、钛等金属。2)平板显示器件:为了保证大面积膜层的均匀性,提高生产率和降低成本,溅射技术镀膜需要钼、铝、ITO等材料;3)薄膜太阳能电池——第三代,溅射镀膜工艺是被优先选用的制备方法,靶材是不可或缺的原材料;4)计算机储存器:磁信息存储、磁光信息存储和全光信息存储等。在光盘、机械硬盘等记录媒体,需要用铬基、钴基合金等金属材料。靶材预溅射建议采用纯氩气进行溅射,可以起到清洁靶材表面的作用。中国澳门智能玻璃陶瓷靶材售价
ITO靶材被广泛应用于各大行业之中,其主要应用分为:显示行业、薄膜太阳能电池、功能性玻璃,等三大领域。中国澳门ITO陶瓷靶材售价
陶瓷靶材按化学组成,可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等.陶瓷靶材是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用,背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用.陶瓷靶材的种类很多,应用范围广,主要用于微电子领域,显示器用,存储等领域.陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展.陶瓷靶材的制备工艺难点主要有:超大尺寸陶瓷靶材制备技术、如何抑制溅射过程中微粒的产生、如何保证陶瓷靶材的相结构及组织均匀性、尽量提高陶瓷靶材的致密度及减少含气量等.陶瓷靶材的特性要求:(1)纯度:陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好.随着微电子产业的发展,对成膜面积的薄膜均匀性要求十分严格,其纯度必须大于4N.平面显示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的纯度都大于4N.(2)密度:为了减少陶瓷靶材的气孔,提高薄膜性能,要求溅射陶瓷靶材具有高密度.靶材越密实,溅射颗粒的密度月底,放电现场就越弱,薄膜的性能也越好.(3)成分与结构均匀性:为保证溅射薄膜均匀,在复杂的大面积镀膜应用中,必须做到靶材成分与结构均匀性好.中国澳门ITO陶瓷靶材售价
文章来源地址: http://huagong.chanpin818.com/taocioc/deta_23096941.html
免责声明: 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息,均来源于其对应的用户,本网对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题,请及时与本网联系,我们将核实后进行删除,本网站对此声明具有最终解释权。